招标详情 磁控溅射设备采购信息公示 2020-10-19 00:00:00.0 磁控溅射设备采购信息公示高德红外采购信息公示 今天一、项目概况（一）项目编号：2020126（二）项目名称：磁控溅射设备 1台 （三）项目内容及需求：1、要求： a.用于CdTe及ZnS介质膜制备，3个工艺腔室，含1个等离子体清洗腔室，2个工艺腔室。b.样品尺寸≥6寸，向上溅射。c.基片盘温度20℃~200℃，温度均匀性6寸wafer 150℃±2℃。d.极限真空（工艺腔室）1.5E-5Pa,低温泵+干泵。e.漏率不低于1E-6Pa*L/s。f.主腔室排气时间30min到达2E-5Pa。g.最小起辉功率低于30W，最小等离子清洗功率低于30W。h.膜成均匀性6寸≤4%。2、交期： 90 日历天。二、资格要求（一）必须符合《政府采购法》第二十二条规定的条件：1、具有独立承担民事责任的能力。2、具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度。3、具有履行合同所必需的设备和专业技术能力。4、有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录。5、法律、行政法规规定的其他条件。6、需提供参加本项目投标活动前三年内，在经营活动中无重大违法、违规记录、重大安全生产事故的声明。7、未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn )失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单和“中国政府采购网”（www.ccgp.gov.cn ）政府采购严重违法失信行为记录名单，提供网上查询结果记录（查询日期在发布公告之后），截图打印。（二）特定资格要求：1、参与企业必须为货物的生产厂家或代理商，代理商必须持有生产厂家代理证书（代理时间不少于1年），不接受项目授权证书。2、本次招标不接受联合体投标。三、供应商资料递交截止时间和地点（一）截止时间：2020-10-26 17:30（二）地点： 武汉市东湖技术开发区黄龙山南路6号四、联系事项联系人：朱威 电话：027-81298313五、监督电话：审计监察部：027-81298317武汉高德红外股份有限公司2020年10月19日